氧化鉍作為一種半導體催化劑，在催化領域已有廣泛的應用，而在光催化領域中的研究還相對較少。半導體Bi203的帶隙能2.8eV，其禁帶寬度與Ti02接近，且由于其穩定性好，具有很好的光催化發展前景。納米Bi203由于其比表面積大，表面活性點多，因而會表現出更優異的光催化活性。
氧化鉍市售品為黃色的粉末，不溶于水，可溶于酸�？杀惶己蜌錃膺�原。
氧化鉍主要用于化工行業（如化學試劑、鉍鹽制造等）、玻璃行業（主要用于著色）、電子行業（電子陶瓷等）等。其中，電子行業是氧化鉍應用最廣的行業，主要用在壓敏電阻、熱敏電阻、氧化物避雷器以及顯像管等領域。此外，Bi2O3有很高的折射率和介電常數、顯著的熒光特性和惰水性。因此，Bi2O3是一種很有潛力的分解水和降解污染物的可見光催化劑。
一種氧化鉍的制備方法，其特征在于包括以下步驟：
1)溶解步驟：將鉍鹽化合物溶于少量有機溶劑中；
2)微波輻射步驟：在裝有微波發射元件的儀器中進行，反應時間為3-60分鐘，反應功率為180-900瓦；
3)洗滌步驟：將步驟2)所得產物用水和無水乙醇分別洗滌；
4)干燥步驟：干燥溫度為70-100℃；
5)焙燒步驟：焙燒溫度為500-700℃，焙燒時間為2-4小時。
